Защитная маска XV 501 T-4 SMART (темно-синяя)(2321/2432), 37(25:12)грамм -SunChemical (England)
Маска Imagecure® XV501T-4 является двухкомпонентной термоотверждаемой жидкой фотопроявляемой защитной паяльной маской, которая после сушки выпариванием образует пленку, обрабатываемую в водном растворе карбоната калия или натрия, или растворителе. Резист и отвердитель перед использованием должны быть тщательно смешаны в соотношении 2:1 вес/вес. Отвердитель должен добавляться к резисту. Для обеспечения полного смешения компонентов рекомендуется использовать механическое смешивание. Перед использованием Imagecure® обеспечить полную очистку всех медных поверхностей, отсутствие пятен и сушку.
Imagecure® серии XV501T-4 может использоваться для любых типов вертикальных и горизонтальных установок сеткографической печати. Очень важна хорошая предварительная сушка покрытия.
Экспонирование: Imagecure® XV501T-4 негативные и могут обрабатываться в любых рамах экспонирования при использовании легированных железом ртутных УФ ламп с длиной волны 300 – 400 нм. Рекомендуются легированные железом ртутные лампы мощностью 5 – 10 кВт. Для удаления ИК излучения рекомендуется использовать охлаждение или ИК-фильтр, чтобы сохранить температуру фотошаблона < 30°C. Оптимальная рабочая температура 22 - 25°C. Типичная энергия экспонирования 250 - 500 мДж/см²
Проявление: Imagecure® XV501T-4 легко проявляется в растворе карбоната калия или натрия. Рекомендуемая концентрация карбоната - 10 ± 2 г/л. Рабочий диапазон рН водного раствора карбоната: 11,3 – 10,8. Для обеспечения качества проявления рекомендуется не понижать pH раствора проявления ниже 10,8. Рекомендуемый диапазон температур 30 - 40°C, оптимально 35 - 38°C.
УФ облучение: Перед окончательным отверждением может требоваться УФ облучение. Рекомендуется использовать многоламповые двухсторонние установки УФ облучения. УФ облучение повысит твердость поверхности, уменьшит выделение летучих веществ, уменьшит ионные загрязнения и повысит стойкость к процессам очистки при монтаже компонентов.
Отверждение (окончательная сушка): Очень важна хорошая сушка покрытия, поэтому необходимы печи с хорошим температурным профилем и отводом паров. Важно обеспечить, чтобы во всех печах измерялся независимый температурный профиль, т.к. недостоверные значения температуры забираемого воздуха и недостаточная термоизоляция дверей могут вызывать появление локальных горячих или холодных зон. Рекомендуемый цикл сушки 140 - 150°C в течение 60 - 90 мин. Оптимально 60 мин при 150°C. Время сушки следует считать с момента достижения в печи заданной температуры. Необходимо гарантировать достаточный воздушный поток в печи с постоянным градиентом температуры для равномерности отверждения защитной паяльной маски.
Хранение: Рекомендумая температура хранения 20°C, вдали от источников тепла и солнечного света.
